透明酸化物光・電子材料国際シンポジウム
（International Symposium on Transparent Oxide Thin
Films for Electronics and Optics(TOEO)
2007.5.21第5回オプティクスおよびエレクトロニクスのための透明酸化物薄膜に関する国際シンポジウム
"5th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics (TOEO-5)"主催：日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会
協賛：日本化学会、日本セラミックス協会、応用物理学会、電気化学会
日時：2007年5月21日（月）～22日（火）
場所：湘南国際村
ホームページ： http://toeo5.msl.titech.ac.jp/
2005.4.7第4回オプティクスおよびエレクトロニクスのための透明酸化物薄膜に関する国際シンポジウム
"4th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics (TOEO-4)"主催：日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会
協賛：日本化学会、日本セラミックス協会、応用物理学会、電気化学会
日時：2005年4月7日（木）～8日（金）
場所：東京ビッグサイト（有明・東京国際展示場）
ホームページ： http://toeo4.msl.titech.ac.jp/2003.2.4.
参加募集
第3回オプティクスおよびエレクトロニクスのための透明酸化物薄膜に関する国際シンポジウム，"3rd International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics (TOEO-3)"
主催：日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会
協賛：日本化学会、日本セラミックス協会、応用物理学会、電気化学会
日時：2003年4月10日（木）～11日（金）
場所：東京ビッグサイト（有明・東京国際展示場）
内容：・ 透明導電性酸化物の合成、特性評価、応用
・ 新規透明導電性材料の開発
・ 透明導電性材料を利用したデバイス開発
・ 発光材料やフォトリフラクティブ材料
・ 光触媒材料とその応用
・ 有機・無機EL材料
招待講演者：D. S. Ginley (NREL, US), C. G. Granqvist (Uppsala, Sweden), J. Robertson (Cambridge, UK), B. Szyszka (IST, Germany), P. Frach (FEP, Germany), D. C. Paine (Brown, US), J. Tate (Oregon, US), H. Gong (Singapore, Singapore), N. A. Armstrong (Arizona, US), T. O. Mason (Northwestern, US), A. Shluger (London, UK), K. Hashimoto (Tokyo, Japan), A. H. Kitai (McMaster, Canada), X. Wu (iFire Technology, Canada), V. K. Vaidyan (Kerala, India), S. Tokito (NHK, Japan), S. K. Koh (P&I Corp., Korea)
参加登録申込：以下の項目を明記の上、E-mailでお申し込み下さい。(1)標題：「TOEO-3参加申込」、(2)氏名（ふりがな）、(3)所属、(4)連絡先（住所、Tel & Fax番号、E-mailアドレス）、(5)登録区分（会員・非会員・学生）。同時に参加登録費を銀行振込でご送金下さい。ご入金をもちまして参加登録完了とさせていただきます。
参加登録費：会員5,000円、非会員20,000円、学生5,000円（懇親会、要旨集代込）で、締切日までに次の口座に振り込んでください。みずほ銀行（旧富士銀行）、烏山（からすやま）支店（220）、普通、2816682、日本学術振興会第166委員会 会計 宋 豊根
参加登録締切：2003年3月31日
懇親会：2003年4月10日の講演終了後に行います。
申込先及び問合先：青山学院大学理工学部化学科 宋 豊根（ｿﾝ ﾌﾟﾝｸﾞﾝ）E-mail: registration@lucid.msl.titech.ac.jp
（電話での問合先：東京工業大学応用セラミックス研究所 細野秀雄 Tel. 045-924-5359）
その他：詳細は、ホームページ（http://lucid.msl.titech.ac.jp/TOEO-3）をご覧下さい。本シンポジウムは"国際セラミックス総合展2003"の会期中に同じ場所で行われます。
2002.10.28.
第3回オプティクスおよびエレクトロニクスのための透明酸化物薄膜に関する国際シンポジウム，"3rd International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics (TOEO-3)"，講演募集
主催：日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会
協賛：日本セラミックス協会、応用物理学会、日本化学会、電気化学会
日時：2003年4月10日（木）～11日（金）
場所：東京ビッグサイト（有明・東京国際展示場）
内容：・ 透明導電性酸化物の合成、特性評価、応用
・ 新規透明導電性材料の開発
・ 透明導電性材料を利用したデバイス開発
・ 発光材料やフォトリフラクティブ材料
応募：講演希望者は， A4サイズの用紙１枚に上下左右15mmの余白を持たせて講演要旨（題目、講演者、所属を含む）を作成し， MS Word形式のファイルを応募先に電子メールでお送りください。15件の招待講演、30件の口頭講演、30件のポスター講演を予定しています。詳細は、以下のホームページをご参照ください。
http://lucid.msl.titech.ac.jp/TOEO-3/
応募先：植田和茂（東京工業大学 応用セラミックス研究所）
〒226-8503横浜市緑区長津田町4259
TEL：045-924-5628 E-mail：kueda@msl.titech.ac.jp
応募締切：2003年1月20日 必着
論文提出：講演者は論文原稿を会議開催日に提出。原稿は、通常の審査を経て、Thin Solid Films (Elsevier)にspecial issueとして発刊予定。
問合せ先：細野秀雄または植田和茂（東京工業大学応用セラミックス研究所）
〒226-8503横浜市緑区長津田町4259
TEL：045-924-5628
E-mail：hosono@msl.titech.ac.jp or kueda@msl.titech.ac.jp
その他：本シンポジウムは"国際セラミックス総合展2003"の会期中に同じ場所で行われます。