透明酸化物光・電子材料研究会 研究会開催情報

 

第3 回研究会 「仮想空間・ディスプレイから成膜プロセスの最新動向」 

【日時】 2023 年1 月20 日(金)
   研究会 13:00~17:30
   懇親会 18:00~20:00

【場所】 〔研究会〕東京大学 工学部5 号館51 号講義室 https://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_06_j.html 
           およびオンライン(ZOOM)
     〔懇親会〕カポ ・ペリカーノ(東京大学 医学部教育研究棟13 階) http://www.capo-p.com/access.html

【プログラム】
 1. 13:00~13:05 開会挨拶 委員長 神谷 利夫
2. 13:05~13:55 「最新ディスプレイ動向」 小野 記久雄(サークル・クロス・コーポレーション)
3. 13:55~14:45 「多結晶酸化物半導体(Poly-OS)」 霍間 勇輝(出光興産株式会社 次世代技術研究所)

14:45~15:00 Coffee Break

4. 15:00~15:50 「HiPIMS について」 清水 徹英(東京都立大学 システムデザイン学部)
5. 15:50~16:40 「原子層プロセス(ALD・ALE)の基礎と応用・理想と現実」 霜垣 幸浩(東京大学 大学院工学系研究科)